掩膜版又稱光罩、光掩膜，是光刻工藝中的關(guān)鍵耗材，從應(yīng)用角度看，主要分為半導(dǎo)體掩膜版和平板顯示掩膜版。隨著全球顯示產(chǎn)業(yè)進一步向中國轉(zhuǎn)移，以及在高世代、高精度市場需求的帶動下，2025年中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模全球占比有望超過60%。不過業(yè)內(nèi)人士強調(diào)，盡管我國掩模版行業(yè)發(fā)展速度很快，但還是存在產(chǎn)業(yè)鏈斷層的情況，關(guān)鍵原材料和設(shè)備仍被掣肘。

國內(nèi)廠商加速追趕

掩膜版被形象地比喻成“相機底片”。這片薄薄的材料可以根據(jù)要求刻畫出不同的鏤空圖案，在面板生產(chǎn)時，通過光照在襯底上留下它的“分身”，就像“拍照”一樣。作為母版的掩膜版是決定面板精細化程度的關(guān)鍵。

在平板顯示領(lǐng)域，掩膜版屬于高消耗材料。深圳清溢光電股份有限公司總經(jīng)理吳克強在接受《中國電子報》記者采訪時指出，以TFT-LCD制造為例，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，將設(shè)計好的TFT陣列和彩色濾光片圖形按照薄膜晶體管的膜層結(jié)構(gòu)順序，依次曝光轉(zhuǎn)移至玻璃基板，最終形成多個膜層所疊加的顯示器件，在此過程中至少需要10片掩膜版。而對于像素排列更為復(fù)雜的Mini/Micro LED和OLED來說，其所使用的掩膜版數(shù)量更多，大概需要17到24片。

圖為：全球平板顯示掩膜版市場規(guī)模（百萬元）

數(shù)據(jù)來源：Omdia，中泰證券研究所

隨著新型顯示技術(shù)的快速發(fā)展，掩膜版的需求也隨之增加。根據(jù)Omidia數(shù)據(jù)，2022年全球平板顯示掩膜版市場規(guī)模已經(jīng)增長至52.1億元。

受益于LCD產(chǎn)業(yè)向我國持續(xù)轉(zhuǎn)移以及國內(nèi)在建產(chǎn)能釋放，中國（不包括中國臺灣地區(qū)）平板顯示掩膜版市場規(guī)模已經(jīng)超過了韓國成為全球第一。根據(jù)群智咨詢數(shù)據(jù)，2022年中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模全球占比達到58%，預(yù)計2025年將超過60%。

我國巨大的市場需求為國內(nèi)掩膜版廠商提供了肥沃的成長土壤。但是從供給端來看，國內(nèi)掩膜版廠商的供給能力與國外廠商相比仍存在較大差距。目前，四家頭部掩膜版企業(yè)——Photronics福尼克斯、SKE、HOYA以及LG-IT的平板顯示掩膜版銷售額合計占全球的近80%。而中國廠商只有清溢光電和路維光電在全球供應(yīng)端占據(jù)了一席之地，合計銷售額占比約為14.6%。

為滿足掩膜版產(chǎn)業(yè)需求，從2022年開始，我國陸續(xù)有新企業(yè)和新產(chǎn)線涌現(xiàn)。

2022年8月，路維光電在正式登陸上交所科創(chuàng)板時宣布募資4.05億元用于高精度半導(dǎo)體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴產(chǎn)項目。

路維光電董事長、總經(jīng)理杜武兵在接受《中國電子報》采訪時透露：“未來三至五年內(nèi)，路維光電將加快相關(guān)布局，擴大高世代TFT-LCD掩膜版、高精度AMOLED掩膜版的生產(chǎn)規(guī)模及市場占有率；同時，公司計劃投資20億元在蘇州建設(shè)半導(dǎo)體掩膜版產(chǎn)線項目，持續(xù)提升半導(dǎo)體掩膜版產(chǎn)品精度和豐富產(chǎn)品種類?！?/p>

2023年4月，由京東方全資子公司北京京東方視訊科技和豪雅株式會社共同持股，總投資超20億元的重慶邁特光電光掩膜版項目開工，計劃2024年第四季度開始量產(chǎn)。

近日，清溢光電發(fā)布公告稱，擬投資14億元投入高精度掩膜版和高端半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)。公告顯示，其中高精度掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項目一期主要生產(chǎn)8.6代及以下，應(yīng)用于a-Si、LTPS、LTPO、AMOLED、MicroLED等平板顯示的高精度掩膜版產(chǎn)品。

掩膜版邁向大尺寸、高精度

中國電子材料行業(yè)協(xié)會常務(wù)副秘書長魯瑾在接受《中國電子報》記者采訪時指出，平板顯示掩模版屬于定制化產(chǎn)品，不同下游領(lǐng)域的不同客戶對于產(chǎn)品的尺寸、精度要求均有不同。

隨著平板顯示產(chǎn)業(yè)的對于大尺寸和高精度的掩膜版的需求不斷增強?！按蟪叽纭焙汀案呔取币呀?jīng)成為我國平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要方向。

當前，大尺寸屏幕需求引領(lǐng)全球平板顯示產(chǎn)業(yè)向8+代線和10+代線邁進，由此成為掩膜版產(chǎn)業(yè)升級的主要驅(qū)動力。

根據(jù)Omdia分析數(shù)據(jù)，預(yù)計2025年全球G8.6及以下平板顯示掩膜版銷售收入預(yù)計約49.3億元；G10平板顯示掩膜版銷售收入預(yù)計約6.54億元。

據(jù)悉，平板顯示掩膜版的尺寸取決于顯示產(chǎn)品世代線，不同世代線的尺寸不一樣，從G2.5到G11的平板顯示掩膜版尺寸跨度可以從300mm跨越到1780mm，且產(chǎn)品尺寸越大，其圖形精度的均一性以及圖形缺陷導(dǎo)致的宏觀視覺不良等管控難點越明顯。

目前，我國掩膜版廠商已經(jīng)攻克諸多難點，實現(xiàn)大尺寸平板顯示掩膜版的量產(chǎn)。其中，清溢光電已實現(xiàn)8.6代高精度平板顯示掩膜版的量產(chǎn)；路維光電已經(jīng)擁有G11代平板顯示掩膜版產(chǎn)品生產(chǎn)線；合肥豐創(chuàng)光罩擁有10.5代平板顯示掩膜版項目。

圖為路維光電G11平板顯示掩膜版產(chǎn)品

此外，近年來，屏幕顯示精度的不斷提高、平板顯示技術(shù)的更新迭代以及高分辨率終端顯示產(chǎn)品的不斷滲透都在推動平板顯示掩膜版朝著更高精度發(fā)展，相關(guān)產(chǎn)品的精細化程度已經(jīng)能夠滿足業(yè)內(nèi)所需。

據(jù)吳克強介紹，目前，清溢光電的6代AMOLED高精度掩膜版的最小線寬尺寸為1.5μm，線寬精度為0.08μm，位置精度0.2μm，缺陷精度0.5μm。

而不同顯示技術(shù)對于掩膜版的圖形設(shè)計和精度要求不盡相同，由此也帶動了掩膜版廠商生產(chǎn)能力的提升。

杜武兵向《中國電子報》記者介紹說，傳統(tǒng)TFT-LCD（包含Mini-LED背光技術(shù)）像素陣列設(shè)計相對簡單，最小特征尺寸基本在2～3微米，而其彩色濾光片圖形尺寸基本在5微米以上。AMOLED陣列設(shè)計更為復(fù)雜，像素密度遠高于傳統(tǒng)LCD，相對來說其精度及缺陷管控難度更高。而能用在近眼顯示（VR/AR）的硅基OLED（Micro OLED）的線路圖形則在亞微米級別。因此，隨著顯示技術(shù)的不斷發(fā)展，作為上游材料供應(yīng)商，必須不斷提升技術(shù)水平，以適應(yīng)平板顯示對掩膜版的曝光分辨率（最小線寬線縫）、圖形精度均勻性、缺陷控制等相關(guān)環(huán)節(jié)的更高技術(shù)要求。

吳克強指出，我國掩膜版產(chǎn)業(yè)經(jīng)過數(shù)年積累，無論是技術(shù)水平、生產(chǎn)能力，還是產(chǎn)品種類都取得了明顯進步，行業(yè)不斷涌現(xiàn)出可以適配新型顯示技術(shù)的掩膜版產(chǎn)品和工藝。例如，LTPS掩膜版、OLED FMM（高精細金屬掩膜版）、Mini/MicroLED掩膜版、3D厚膠生產(chǎn)技術(shù)、4K/8K高分辨率顯示屏掩膜版，以及平板顯示用半透膜（HTM）、PSM等先進的掩膜版工藝。

圖為路維光電掩膜版生產(chǎn)作業(yè)現(xiàn)場

關(guān)鍵原材料和設(shè)備仍存短板

業(yè)內(nèi)人士強調(diào)，盡管我國平板顯示掩模版行業(yè)發(fā)展速度很快，但還是存在產(chǎn)業(yè)鏈斷層的情況。例如，關(guān)鍵主要原材料：石英基板材料（尤其是中大型尺寸石英基板）、遮光膜等仍然依賴進口，這就意味著，即使我國掩模版企業(yè)從海外巨頭手中搶得訂單，卻仍然受國外材料廠商的掣肘。

掩模版的上游材料是經(jīng)過加工后的合成石英板，實際上我國并不缺少合成石英產(chǎn)能，但在掩膜基材出廠后，還需要經(jīng)過研磨、拋光、鍍鉻、光阻涂布等幾個精加工環(huán)節(jié)，只有經(jīng)過加工后的精掩膜基板才可以交付給掩模版生產(chǎn)廠商。

據(jù)業(yè)內(nèi)人士介紹，此前，全球具備掩膜基板精加工的企業(yè)有日本HOYA和韓國LG-IT兩家公司，其他公司是不具備掩膜和鍍鉻等加工能力的，這迫使掩模版生產(chǎn)廠商只能進口精加工后的基板。

魯瑾指出，為降低原材料采購成本，保障終端產(chǎn)品質(zhì)量，國內(nèi)掩膜版行業(yè)企業(yè)開始向上游延伸。目前，國內(nèi)掩膜版企業(yè)已具備一定從研磨、拋光、鍍鉻、涂膠等的生產(chǎn)能力，這不僅可以有效降低原材料的采購成本，而且能夠有效提升掩膜版產(chǎn)品質(zhì)量。

杜武兵指出，路維光電正積極探索掩膜版上游材料領(lǐng)域，目前已實現(xiàn)了國內(nèi)掩膜版行業(yè)在高精度、大尺寸光阻涂布技術(shù)上零的突破，這標志著國內(nèi)掩膜版企業(yè)已開始對產(chǎn)業(yè)鏈上游技術(shù)逐步延伸，一定程度上縮小了與國外領(lǐng)先企業(yè)的差距。

此外，關(guān)于生產(chǎn)平板顯示掩膜版的核心設(shè)備——光刻機的供應(yīng)情況，據(jù)吳克強介紹，目前，光刻機供應(yīng)商集中度較高，基本被瑞典Mycronic和德國海德堡儀器兩家公司所壟斷，國內(nèi)外掩膜版企業(yè)對兩家生產(chǎn)的設(shè)備依賴程度較高。

責任編輯：谷月